ÀÏ ½Ã : 2012³â 8¿ù 20ÀÏ(¿ù) ~ 22ÀÏ(¼ö) |
Àå ¼Ò : ¶ó¸¶´Ù ÇÁ¶óÀÚ Á¦ÁÖÈ£ÅÚ |
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ÁÖ¿äÀÏÁ¤ |
8¿ù 20ÀÏ(¿ù) |
Tutorial, Á¦15ȸ Áø°ø±â¼ú °½Àȸ, Welcome Reception |
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8¿ù 21ÀÏ(È) |
ÇÐȸÃÊû°¿¬, ¼ö»ó±â³ä°¿¬, ±¹Á¦½ÉÆ÷Áö¾ö, Ưº°½ÉÆ÷Áö¾ö, ±¸µÎ ¹× Æ÷½ºÅÍ ¹ßÇ¥, Áø°øÀåºñÀü½Ãȸ, °£Ä£È¸ |
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8¿ù 22ÀÏ(¼ö) |
±¸µÎ ¹× Æ÷½ºÅÍ ¹ßÇ¥, Áø°øÀåºñ Àü½Ãȸ |
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³í¹®¹ßÇ¥ ºÐ¾ß |
Áø°ø±â¼ú, Ç¥¸é ¹× °è¸é°úÇÐ, ÇöóÁ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ, ¹ÝµµÃ¼ ¹× ¹Ú¸·, ³ª³ë°úÇбâ¼ú, ¿¡³ÊÁö±â¼ú |
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ÇÐȸÃÊû°¿¬ |
Technology Trends in Vacuum Pumping / Stephen Ormrod(¿¡µå¿öµå ÄÚ¸®¾Æ(ÁÖ)) |
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Tutorial |
Fundamentals and applications of Graphene |
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±¹Á¦½ÉÆ÷Áö¾ö(KVS-AVS joint symposium) |
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ÇöóÁ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ : Plasma-Surface Interaction |
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Ưº°½ÉÆ÷Áö¾ö |
- Áø°ø±â¼ú : Áø°øºÎÇ°/ÀåÄ¡ÀÇ ±¹³»/¿Ü ±â¼ú °³¹ß µ¿Çâ
- ³ª³ë°úÇбâ¼ú : Emerging Nano Materials & Devices
- ¿¡³ÊÁö±â¼ú : ½Ç¸®ÄÜ Å¾çÀüÁö, Àú°¡/°íÈ¿À²È
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ÃÊ·ÏÁ¢¼ö |
2012³â 6¿ù 1ÀÏ(±Ý) ~ 2012³â 7¿ù 13ÀÏ(±Ý) / ¿Â¶óÀÎ Á¢¼ö
ÃÊ·ÏÁ¢¼ö ¼öÁ¤Àº Á¢¼ö ¸¶°¨ÀÏ°ú µ¿ÀÏÇÕ´Ï´Ù.
¡Ø Á¢¼ö È®ÀÎ ¸ÞÀÏÀ» ¹ÞÁö ¸øÇÑ °æ¿ì ÀçÁ¢¼ö ȤÀº »ç¹«±¹À¸·Î ¿¬¶ô¹Ù¶ø´Ï´Ù. |
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»çÀüµî·Ï |
2012³â 6¿ù 1ÀÏ(±Ý) ~ 2012³â 7¿ù 27ÀÏ(±Ý) / ¿Â¶óÀÎ Á¢¼ö
¡Ø°øÀÎÀÎÁõ¼ µîÀÇ ¹®Á¦·Î Ä«µå °áÁ¦°¡ ¾î·Á¿ï °æ¿ì »ç¹«±¹À¸·Î ¿¬¶ô¹Ù¶ø´Ï´Ù. |
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ÇÐȸ»ó |
Á¦6ȸº¸È£Áø°ø°úÇлó
Á¦5ȸ¼º¿ø¿¡µå¿öµåÇмú»ó
Á¦10ȸ Áø°ø±â¼ú»ó
ÀþÀºÁø°ø°úÇÐÀÚ»ó ½Ã»ó ¹× ½É»ç - Ãßõ±âÇÑ : 2012³â 7¿ù 6ÀÏ(±Ý)±îÁö
À¸¶äÆ÷½ºÅÍ ¹ßÇ¥»ó ½Ã»ó ¹× ½É»ç
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