2/8(¼ö) | ´ÙÀ̾Ƹóµå(2Ãþ) | ·çºñ(2Ãþ) | ¿¡¸Þ¶öµå(2Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) |
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09:00-18:00 | µî·Ï (2Ãþ ·Îºñ) | ||||
09:00-12:00 | - | Á¦11ȸ Áø°ø±â¼ú°Á (~12:30) |
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12:00-13:30 | Á¡½É½Ã°£ | ||||
13:00-17:00 | ¡ìTutorial¡í ¹æ»ç±¤À» ÀÌ¿ëÇÑ Ç¥¸éºÐ¼®±â¼ú (~17:40) |
Á¦11ȸ Áø°ø±â¼ú°Á (13:30~17:30) |
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18:00-20:00 | Welcome Reception ( Èִнº º¼·ë) |
2/9(¸ñ) | ´ÙÀ̾Ƹóµå¥°(2Ãþ) | ´ÙÀ̾Ƹóµå¥±(2Ãþ) | ·çºñ(2Ãþ) | ¿¡¸Þ¶öµå(2Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) |
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09:00-18:00 | µî·Ï (2Ãþ ·Îºñ) | |||||
09:30-10:15 | ³ª³ë°úÇбâ¼ú¥° (10:30-) |
¼ö»ó±â³ä°¿¬ | Áø°ø±â¼ú¥° (09:40-) |
Ç¥¸é ¹× °è¸é°úÇРƯº°½ÉÆ÷Áö¾ö Self-Assembled Nanometer -Scale Networks on Surfaces (10:00-) |
ÇöóÁ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ¥° (10:00-) |
¿¡³ÊÁö
񃬣 I (10:00-) |
10:00-12:00 | ¹ÝµµÃ¼
¹×
¹Ú¸·¥° (10:15-) |
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12:00-13:00 | Á¡½É½Ã°£ | |||||
13:00-14:30 | Æ÷½ºÅÍ Session ¥° (Èִнº º¼·ë ) : Àüü ºÐ°ú | |||||
14:30~17:20 | ³ª³ë°úÇбâ¼ú II (15:00-17:00) |
¹ÝµµÃ¼ ¹× ¹Ú¸·
Ưº°½ÉÆ÷Áö¾ö ½Å°³³ä ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ ¹× ÀÀ¿ë |
Áø°ø±â¼ú II (-16:30) |
Ç¥¸é ¹×
°è¸é°úÇÐ I (-16:30) |
ÇöóÁ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ Æ¯º°½ÉÆ÷Áö¾ö Advanced Magnetron Sputtering Technology |
¿¡³ÊÁö
񃬣 II
(-15:45) |
17:20-17:30 | ÈÞ½Ä | |||||
17:30-18:10 | ÃÑȸÃÊû°¿¬ ( Èִнº º¼·ë) | |||||
18:10-20:30 | ÃÑȸ ¹× °£Ä£È¸ (Èִнº º¼·ë) | |||||
10:00-17:00 | Áø°øÀåºñÀü½Ãȸ |
2/10(±Ý) | ´ÙÀ̾Ƹóµå¥°(2Ãþ) | ´ÙÀ̾Ƹóµå¥±(2Ãþ) | ·çºñ(2Ãþ) | ¿¡¸Þ¶öµå(2Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) | ÅäÆÄÁ(3Ãþ) |
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09:00-13:30 | µî·Ï (2Ãþ ·Îºñ) | |||||
09:00-12:00 | ³ª³ë°úÇбâ¼ú III
(10:30-) |
¹ÝµµÃ¼ ¹× ¹Ú¸· II
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ÇöóÁ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¥± |
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12:00-13:00 | Á¡½É½Ã°£ | |||||
13:00-14:30 | Æ÷½ºÅÍ Session ¥± (Èִнº º¼·ë ) : Àüü ºÐ°ú | |||||
10:00-14:00 | Áø°øÀåºñ Àü½Ãȸ |